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上海先進半導體現時運作兩間晶圓制造廠，全部均位於中國上海漕河涇新興技術開發區。 1/2號晶圓制造廠原以1號晶圓及2號晶圓制造廠形式獨立管理及經營，分別生產5寸及6寸晶圓。然而，由於公司不斷將現有5寸晶圓的產能轉為6寸晶圓的產能，因此於二零零五年二月將1號晶圓及2號晶圓制造廠的管理及經營合并，以提高效率。下表載列公司目前經營的晶圓制造廠架構的概要：
| 晶圓制造廠 |
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1/2號晶圓制造廠 |
3號晶圓制造廠 |
| 無塵生產室級別 |
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無塵生產室 1： 10級 |
1級 |
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無塵生產室 2： 1級 |
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| 投產 |
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無塵生產室 1：一九九二年 |
二零零三? |
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無塵生產室 2：一九九六年 |
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| 無塵生產室之面積（平方米） |
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4,531 |
6,000 |
| 晶圓面積 |
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5?/6? |
8? |
| 最小線寬 |
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0.6微米 |
0.25微米 |
| 制造工序所使用之加工技術 |
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雙極型﹜BiCMOS﹜EEPROM﹜HVMOS |
BiCMOS, EEPROM, HVMOS |
按照公司現時的架構，1/2號晶圓制造廠包括兩間無塵生產室，分別為無塵生產室1（原1號晶圓制造廠）及無塵生產室2（原2號晶圓制造廠）。無塵生產室1為10級無塵晶圓制造廠，截止到二零零五年十二月三十一日，每月生產約28,000件5寸晶圓及15,000件6寸晶圓，所使用的技術主要為雙極型加工技術，最少線寬為1.5微米。無塵生產室2為1級無塵晶圓制造廠，截止到二零零五年十二月三十一日，每月生產36,00件6寸晶圓，所使用的技術主要為BiCMOS及EEPROM技術，最少線寬為0.6微米。3號晶圓制造廠內的無塵生產室為1級無塵晶圓制造廠，設計產能為每月生產30,000件8寸晶圓，并可生產最小線寬為0.25米的晶圓，所使用的技術主要為BiCMOS及EEPROM技術。截止到二零零五年十二月三十一日，3號晶圓制造廠的產能為每月生產12,000件8寸晶圓。
為應付公司客戶對6寸晶圓的需求，自二零零三年十二月起，上海先進半導體開始將1/2號晶圓制造廠內的無塵生產室1部份5寸晶圓產能轉變為生產6寸晶圓，而公司可能于日後按客戶需求將5寸晶圓產能進一步轉變為生產6寸晶圓。
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